047-1-41 PDP用高纯度氧化镁制备技术

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所属分类:化工项目

一、产品和技术简介:

超高纯氧化镁是一种新型功能精细无机材料,广泛应用于电子元器件、高级陶瓷材料等多个领域;例如MgO介质保护膜是新一代等离子平板显示器(PDP)中的关键部件,它的性能直接影响到PDP的工作特性和寿命,一般要求MgO纯度要求大于99.99%,杂质元素总量不得超过100ppm。虽然我国镁资源储存量世界排名第一,但尚缺少大规模生产高纯氧化镁的关键技术,国内批量生产的MgO纯度通常都在99.9%以下,这限制了其在高科技领域的应用。

本项目发明一种简单制备高纯MgO产品的技术,可用于生产PDP显示器的介质保护膜原料,及生产氧化镁单晶的原料,产品纯度达到99.99%以上;发明了密堆积高纯碳酸镁制备电熔氧化镁技术;发明了Ca、Sr、Sc掺杂氧化镁材料制备工艺;发明了镁铝、硼镁等复合功能氧化物材料制备技术;制备了空心管、方块、纤维、多层片、花状等形貌的氧化镁、碳酸镁、碱式碳酸镁和碱式硫酸镁微纳米材料;其原料易得、产品纯度高、成本低,具有工业化应用的价值。

二、应用范围和生产条件:

本发明提出一种新的实用技术,使MgO产品纯度达到99.99%以上、粒度在50nm~10μm之间;其原料易得、产品纯度高、成本低,具有工业化应用的价值。

三、获得的专利等知识产权情况:

一种制备超纯氧化镁粉体的方法;ZL2009100103990.

047-1-41   PDP用高纯度氧化镁制备技术

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